[实用新型]绝缘介质表面类金刚石薄膜的沉积装置无效

专利信息
申请号: 200620153410.0 申请日: 2006-12-01
公开(公告)号: CN200996044Y 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 刘东平;古建中;冯志庆 申请(专利权)人: 大连民族学院光电子技术研究所
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/513;C03C17/245
代理公司: 大连科技专利代理有限责任公司 代理人: 于忠晶
地址: 116600辽宁省大*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及绝缘介质表面类金刚石薄膜的沉积装置,绝缘介质为隔断的两个对称的真空室上均装有排气口,真空室内分别装有高压电极和地电极,绝缘介质置于高压电极和地电极之间,且与高压电板面接触,与地电极之间留有间隙,装有高压电极的真空室上的排气口上装有截止阀,装有地电极的真空室上开有入气孔。本实用新型利用介质阻挡放电等离子体沉积薄膜,具有其独特的优势:如放电方式简单,设备成本低;放电室气体间隙小(通常几毫米),气体体积小,气体流量低;能耗低等。本实用新型特别是适用于玻璃、聚酯、石英介质,可在这些介质上进行薄膜沉积。
搜索关键词: 绝缘 介质 表面 金刚石 薄膜 沉积 装置
【主权项】:
1、绝缘介质表面类金刚石薄膜的沉积装置,其特征是:绝缘介质(1)为隔断的两个对称的真空室(6)上均装有排气口(7),真空室内分别装有高压电极(2)和地电极(3),绝缘介质置于高压电极和地电极之间,且与高压电板面接触,与地电极之间留有间隙,装有高压电极的真空室上的排气口上装有截止阀(7),装有地电极的真空室上开有入气孔(9)。
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