[实用新型]生产沉淀法二氧化硅的自动控制装置无效

专利信息
申请号: 200620128593.0 申请日: 2006-12-30
公开(公告)号: CN200997075Y 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 张云升;张烘;张乃蛇;邬敦伟;许海良;王建伟 申请(专利权)人: 张云升
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;G05D27/02;C01B33/113
代理公司: 山西太原科卫专利事务所 代理人: 朱源
地址: 036500山西省河曲县*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型涉及一种自动控制装置,具体为生产沉淀法二氧化硅的自动控制装置。解决目前生产厂家都是靠操作经验从事沉淀法二氧化硅的生产,产品性能不稳定、工业自动化程度低、成本高等问题。该控制装置包含主控计算机,主控计算机经RS232/485转换器分别与信号采集支路和包括可编程序控制器PLC的控制信号输出支路相连,信号采集支路包括由AI系列智能仪表IC1、IC2、IC3分别和温度传感器TS、流量传感器LS、液位传感器PS构成的信号采集支路。整个装置采用一台计算机进行控制,缩小运行人员的监视范围。计算机提供的信息比常常规仪表更准确、更直观、更集中。减轻运行人员的劳动强度。提高了产品质量和产量,节能降耗。
搜索关键词: 生产 沉淀 二氧化硅 自动控制 装置
【主权项】:
1、一种生产沉淀法二氧化硅的自动控制装置,包含主控计算机(1),其特征为:主控计算机经RS232/485转换器(2)分别与信号采集支路和包括可编程序控制器(PLC)的控制信号输出支路相连,信号采集支路包括由AI系列智能仪表(IC1)和温度传感器(TS)构成的温度信号采集支路、由AI系列智能仪表(IC2)和流量传感器(LS)构成的流量信号采集支路以及由AI系列智能仪表(IC3)和液位传感器(PS)构成的液位信号采集支路。
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