[实用新型]水冷等离子淋浴器的送气系统无效
申请号: | 200620113050.1 | 申请日: | 2006-04-24 |
公开(公告)号: | CN2914323Y | 公开(公告)日: | 2007-06-20 |
发明(设计)人: | 彭立波;文超;何科峰;邱小莎 | 申请(专利权)人: | 北京中科信电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/265 | 分类号: | H01L21/265;H01L21/425;C30B31/22;H01J37/317;H05H1/00;H05F3/04 |
代理公司: | 北京中海智圣知识产权代理有限公司 | 代理人: | 曾永珠 |
地址: | 100036北京市海淀区复兴路*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种水冷等离子淋浴器的送气系统,该系统包括一个气瓶、四个气动阀、两个压力表、一个调压阀、一个过滤器、一个质量流量计。本实用新型结构简单,能保证送气气体的气压恒定,采用气动阀控制气路通断,精密质量流量计控制气流,且设置有氮气口和真空接口,可实现对送气管路的净化清洗。各接口采用高洁净的不锈钢金属密封接头,确保所送气体的高纯度,安全可靠性高,安装调试简单。 | ||
搜索关键词: | 水冷 等离子 淋浴器 送气 系统 | ||
【主权项】:
1.一种水冷等离子淋浴器的送气系统,其特征在于:包括一个气瓶、四个气动阀、两个压力表、一个调压阀、一个过滤器、一个质量流量计;其中所述的气瓶是气体容器,装有供等离子淋浴器工作的高压气体;该气瓶连接一个气动阀,该气动阀控制气瓶气体的通断;所述气动阀连接一个压力表,该压力表显示气瓶的气体压力;所述压力表后面连接一个调压阀,该调压阀调节主气路中的气体压力;所述压力表和调压阀之间连接一个气动阀,该气动阀装在氮气旁路上,控制旁路上用于清洗管路的氮气开关;所述调压阀后连接一个压力表,该压力表显示经过调压阀后管路中气体的压力;所述压力表后连接一个过滤器,该过滤器对通过的气体过滤;所述压力表和过滤器之间连接一个气动阀,该气动阀是在主气路与抽真空设备间的阀门,抽真空时,气动阀开;所述过滤器后面连接一个气动阀,该气动阀控制送气气路与离子淋浴枪的通断;所述气动阀后面连接质量流量计,该质量流量计控制流入离子淋浴器的气流大小。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造