[实用新型]碳化硅-铬纳米陶瓷镀层的瓦楞辊无效

专利信息
申请号: 200620001113.4 申请日: 2006-01-16
公开(公告)号: CN200945725Y 公开(公告)日: 2007-09-12
发明(设计)人: 王昊;王永林 申请(专利权)人: 王昊
主分类号: B31F1/20 分类号: B31F1/20
代理公司: 北京万科园知识产权代理有限责任公司 代理人: 张亚军;王军
地址: 100089北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种碳化硅-铬纳米陶瓷镀层的瓦楞辊,其特征在于:瓦楞辊基材的工作表面上具有0.08-0.01mm厚的碳化硅-铬纳米陶瓷镀层,碳化硅-铬纳米陶瓷镀层由三层构成;第一层是与瓦楞辊基材牢固结合的离子扩散层,第二层为与第一层结合的底层,最外层为与底层结合的碳化硅-铬纳米陶瓷镀层。本实用新型与原来镀硬铬瓦楞辊相比的优点是耐磨性提高3.7倍,使用寿命提高了3倍以上,成本降低一半。
搜索关键词: 碳化硅 纳米 陶瓷 镀层 瓦楞
【主权项】:
1、一种碳化硅-铬纳米陶瓷镀层的瓦楞辊,其特征在于:瓦楞辊基材(1)的工作表面上具有0.08-0.01mm厚的碳化硅-铬纳米陶瓷镀层(2),碳化硅-铬纳米陶瓷镀层由三层构成;第一层是与瓦楞辊基材牢固结合的离子扩散层(3),第二层为与第一层结合的底层(4),最外层为与底层结合的碳化硅-铬纳米陶瓷镀层(5)。
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