[发明专利]一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置无效
申请号: | 200610200516.6 | 申请日: | 2006-06-05 |
公开(公告)号: | CN101086058A | 公开(公告)日: | 2007-12-12 |
发明(设计)人: | 李博峰 | 申请(专利权)人: | 李博峰 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100083北京市北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置,可实现卷带状工料在大气中连续放料,通过数级上行的具有两个辊轴对滚夹紧带状基料的动态真空密封装置进入一段或分段的高真空环境中进行沉积薄膜,然后再经过下行的动态真空密封装置返回到大气中进行收料。所述装置包括有收放料子系统、纠偏子系统、真空密封子系统、一段或分段的真空室、真空获得子系统以及真空薄膜沉积子装置,所述真空密封装置实现带状基料由大气进/出真空环境的动态密封。本发明能够实现在带状基料上连续进行真空沉积薄膜涂层,具有高生产效率和薄膜涂层质量稳定的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 连续 带状 真空 沉积 薄膜 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于连续带状基料真空沉积薄膜的装置,主要包含有一段或分段的真空室、一组与真空室配合的真空获得系统,其特征在于:还包含一组用以动态密封带状基料从大气进/出真空室的真空密封子系统,提供原材料和存放产品的收放料子系统,用来纠正带状基料进出真空密封装置时产生偏差的纠偏子系统。
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