[发明专利]用直流辉光放电在细长金属管内壁沉积类金刚石膜的方法无效
申请号: | 200610200503.9 | 申请日: | 2006-05-31 |
公开(公告)号: | CN1851045A | 公开(公告)日: | 2006-10-25 |
发明(设计)人: | 温小琼;王德真 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/52 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 | 代理人: | 侯明远 |
地址: | 116024*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于低温等离子体物理与化学领域中的材料表面改性技术,公开了一种利用直流辉光等离子体在细长金属管内表面沉积类金刚石薄膜的方法和装置。其特征是:采用同轴电极Pa的气压下,利用几千伏的直流恒定高Pa-103电压在细长金属管内产生稳定的圆筒状直流辉光等离子体,管内产生的圆筒状直流辉光等离子体的长度通过电压源电压进行控制,从而在整个细长金属管内表面沉积类金刚石薄膜。本发明效果和益处是可以在直径5mm以上,长度5mm-2000mm的金属管表面均匀地沉积类金刚石薄膜,由于采用几千伏稳恒直流电压源且对真空度要求不高,设备成本低,使用和维护方便。 | ||
搜索关键词: | 直流 辉光 放电 细长 金属管 内壁 沉积 金刚石 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用直流辉光放电在细长金属管内壁沉积类金刚石膜的方法,其特征是:在细长金属管轴线上拉一根直径30至200微米的钨丝构成同轴电极结构,在同轴电极结构的外部套一个绝缘陶瓷管后放入真空室内,向真空室内通入氩气浓度占30-70%的氩气和甲烷或乙炔混合气体,在1Pa-103Pa的气压下,利用直流恒定电压源加负高压在细长金属管内产生稳定的圆筒状直流辉光等离子体,管内产生的圆筒状直流辉光等离子体的长度通过电压源电压进行控制,从而在整个细长金属管内表面沉积类金刚石薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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