[发明专利]应用磁畴壁移动的半导体器件无效
申请号: | 200610171218.9 | 申请日: | 2006-12-21 |
公开(公告)号: | CN101106170A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | 林志庆;金恩植;李成喆 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L43/10 | 分类号: | H01L43/10;H01L27/22;G11C11/14;G11C19/02;H01F10/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种应用磁畴壁移动的半导体器件。该半导体器件包括内部磁畴壁移动的磁性物质膜,其中该磁性物质膜具有0.015到0.1的阻尼常数。 | ||
搜索关键词: | 应用 磁畴壁 移动 半导体器件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,其包括内部磁畴壁移动的磁性物质膜,其中该磁性物质膜具有0.015到0.1的阻尼常数。
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