[发明专利]图案形成用玻璃掩模及其制造方法和制造装置无效
| 申请号： | 200610169996.4 | 申请日： | 2006-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101101440A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 上村一秀;中山保彦 | 申请（专利权）人： | 富士通日立等离子显示器股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08;G03F1/00;H01L21/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种图案形成用玻璃掩模，其包括重合多块的玻璃板和由至少一块玻璃板保持的图案形成层，能够抑制因光掩模的挠度所造成的图案形成精度的恶化。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 玻璃 及其 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成用玻璃掩模，其特征在于：包括重合的多块玻璃板和由至少一块玻璃板保持的图案形成层。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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