[发明专利]曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，使对于光罩薄膜及基板的空气的送风状态达到适当，而且使曝光室内对光罩薄膜及基板送风的空气的流体环境达到适当。曝光装置(1)包括：设于上述曝光室(R2)内的一侧壁上、沿着成为上述支持框(31)的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口(3)；设于上述供给口的下方、通过上述支持框与上述载置台(30)之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口(5)；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置(4)；使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时、调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置(2)。

主权项

1.一种曝光装置，具有一曝光室，在内部收纳有载置基板的载置台以及支持光罩薄膜的支持框，使上述基板与上述光罩薄膜抵接或接近，照射包含既定波长的紫外线的光，而对上述基板曝光的曝光装置中，包括：设于上述曝光室内的一侧壁上，沿着成为上述支持框的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口；设于上述供给口的下方，通过上述支持框与上述载置台之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置；以及设于上述曝光室外，使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时，调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置。