[发明专利]一种氮化镓基Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体器件的电极有效
申请号: | 200610166563.3 | 申请日: | 2006-12-30 |
公开(公告)号: | CN101000942A | 公开(公告)日: | 2007-07-18 |
发明(设计)人: | 张建宝;徐韬 | 申请(专利权)人: | 武汉华灿光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L23/48 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人: | 朱必武;周瑾 |
地址: | 430223湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 一种氮化镓基III-V族化合物半导体器件的电极,包括n电极6和p电极7,n电极6位于氮化镓基III-V族化合物半导体器件外延片的n型氮化镓(n-GaN)层2上,p电极7分别位于氮化镓基III-V族化合物半导体器件外延片的p型氮化镓(p-GaN)4和透明电极5上,n电极6由欧姆接触层6A、阻挡层6B和金属压焊层6C三层构成,p电极7由粘附导电层7A、阻挡层7B和金属压焊层7C三层构成,其特征在于:所述欧姆接触层6A和粘附导电层7A均为铬Cr,金属压焊层6C和7C均为金属铝Al。可以降低生产成本、简化生产工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 化合物 半导体器件 电极 | ||
【主权项】:
1、一种氮化镓基III-V族化合物半导体器件的电极,包括n电极(6)和p电极(7),n电极(6)位于氮化镓基III-V族化合物半导体器件外延片的n型氮化镓层(2)上,p电极7分别位于氮化镓基III-V族化合物半导体器件外延片的p型氮化镓(4)和透明电极(5)上,n电极(6)由欧姆接触层(6A)、阻挡层(6B)和金属压焊层(6C)三层构成,p电极(7)由粘附导电层(7A)、阻挡层(7B)和金属压焊层(7C)三层构成,其特征在于:所述欧姆接触层(6A)和粘附导电层(7A)均为铬,金属压焊层(6C)和(7C)均为金属铝Al。
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