[发明专利]用于生成掩模的方法和设备有效
申请号: | 200610163581.6 | 申请日: | 2006-10-24 |
公开(公告)号: | CN1955718A | 公开(公告)日: | 2007-05-02 |
发明(设计)人: | K·G·哈丁;X·钱;R·S·德穆思 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | G01N21/00 | 分类号: | G01N21/00;G01N21/95;G01N21/41;G01B11/00;G01B11/02;G01B11/24;G01M15/00;G01M15/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李静岚;梁永 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于产生用在光测量系统(10)中的掩模(52)的方法(100),该光测量系统包括用于把光投射到物体(12)表面上的光源(22),和用于接收从该物体表面反射回来的光的成像系统。该方法包括确定(102)待检查物体的轮廓,和基于所确定轮廓产生(104)掩模,其中该掩模包括在其内部延伸的开口(172),从光源处看来该开口的轮廓与物体的轮廓基本匹配。 | ||
搜索关键词: | 用于 生成 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于产生用在光测量系统(10)中的掩模(52)的方法(100),该光测量系统(10)包括用于把光投射到物体(12)表面上的光源(22),和用于接收从该物体表面反射的光的成像系统,所述方法包括:确定(102)待检查物体的轮廓;和基于所确定的轮廓产生(104)掩模,其中该掩模包括在其内部延伸的开口(172),从光源处看来该开口的轮廓与物体的轮廓基本匹配。
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