[发明专利]用于生成掩模的方法和设备有效

专利信息
申请号: 200610163581.6 申请日: 2006-10-24
公开(公告)号: CN1955718A 公开(公告)日: 2007-05-02
发明(设计)人: K·G·哈丁;X·钱;R·S·德穆思 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00;G01N21/95;G01N21/41;G01B11/00;G01B11/02;G01B11/24;G01M15/00;G01M15/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;梁永
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于产生用在光测量系统(10)中的掩模(52)的方法(100),该光测量系统包括用于把光投射到物体(12)表面上的光源(22),和用于接收从该物体表面反射回来的光的成像系统。该方法包括确定(102)待检查物体的轮廓,和基于所确定轮廓产生(104)掩模,其中该掩模包括在其内部延伸的开口(172),从光源处看来该开口的轮廓与物体的轮廓基本匹配。
搜索关键词: 用于 生成 方法 设备
【主权项】:
1.一种用于产生用在光测量系统(10)中的掩模(52)的方法(100),该光测量系统(10)包括用于把光投射到物体(12)表面上的光源(22),和用于接收从该物体表面反射的光的成像系统,所述方法包括:确定(102)待检查物体的轮廓;和基于所确定的轮廓产生(104)掩模,其中该掩模包括在其内部延伸的开口(172),从光源处看来该开口的轮廓与物体的轮廓基本匹配。
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