[发明专利]抛光工件的抛光设备和方法无效
| 申请号： | 200610162463.3 | 申请日： | 2006-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN1966210A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | 佐藤运海;市川浩一郎;西本吉伸;中村由夫;长谷川毅;饭浜真澄 | 申请（专利权）人： | 不二越机械工业株式会社 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B1/00;C25B1/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 胡晓萍 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种工件抛光的方法能够降低抛光成本，以高抛光精度抛光工件表面，并且容易地处置使用过的抛光液体和使用过的清洗液体。该方法包括以下步骤：将工件压在抛光件上；输送抛光液体；和对于抛光件相对地移动工件。通过电气分解电解溶液而产生的电解还原水用来作为抛光液体。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 工件 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光工件的方法，包括以下步骤：将工件压在抛光件上；输送抛光液体；和对于抛光件相对地移动工件，其中由电气分解电解溶液获得的电解还原水作为抛光液体使用。
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