[发明专利]一种具有经图案化的基底的发光元件及其制造方法有效
| 申请号： | 200610151738.3 | 申请日： | 2006-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN101140968A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 徐大正;李亚儒;杨雅兰;苏英阳 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭示具有经图案的基板的发光元件及其制造方法。该经图案的基板具有多个凹陷以散射由发光层发出的光线，该凹陷表面具有较少的晶格破坏，并且包括多个对称的斜面区。本发明同时提出以湿蚀刻方式形成经图案的基板的制造方法，即以磷酸为主的蚀刻溶液对基板蚀刻出多个凹陷，后续成长的半导体叠层可直接形成在该经图案的基板上并填入该凹陷以达到较好的光取出效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 图案 基底 发光 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种半导体发光元件，包括：经图案化的基底，包括多个具开口的凹陷；半导体缓冲层，形成在该经图案化的基底上并填入该多个凹陷；发光叠层，形成在该半导体缓冲层上，该发光叠层包括第一导电类型半导体层、活性层和第二导电类型半导体层；和第一电极与第二电极，分别与该第一导电类型半导体层和该第二导电类型半导体层电连接；其中该凹陷的开口图案为圆滑封闭曲线。
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