[发明专利]薄膜构图的衬底及其表面处理

摘要

公开了诸如EL器件之类的其像素间薄膜厚度几乎没有变化的显示器件，以及一种滤色器。在衬底上设置的是由喷墨方法在要被涂敷的并由堤所分隔的区域中形成的像素，其满足公式a＞d/4，d/2＜b＜5d，c＞t₀和c＞d/(2b)的关系。其中a为堤的宽度，c为堤的高度，b为要被涂敷的区域的宽度，而d为或形成薄膜层的液体材料的液滴直径，t₀是薄膜层的膜厚度。还公开了一种修改表面的方法，包括在形成表面的无机物堤上形成有机材料的堤，并在过量氟的条件下进行等离子体处理。还有一种方法，包括对具有由有机材料形成的堤的衬底进行氧气等离子体处理，并进行含氟气体的等离子体处理。

主权项

1.一种显示器件的制造方法，包括如下工序：在具有无机材料的部分的堤形成表面有选择地形成至少包含有机材料的堤，将液体薄膜材料填充到由所述堤围成的区域中，形成预定厚度的薄膜层，所述显示器件的制造方法的特征在于，包括以下工序：对所述堤及所述堤形成表面进行等离子体处理的表面处理工序；向由所述堤围成的区域排出所述液体薄膜材料的液体材料排出工序；以及去除所述液体薄膜材料的溶剂成分的干燥工序，重复所述液体材料排出工序和干燥工序，以使所述薄膜层达到预定的厚度。