[发明专利]用于衬底处理室的处理配件和靶材有效
| 申请号： | 200610136694.7 | 申请日： | 2006-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101089220A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | 凯瑟琳·沙伊贝尔;迈克尔·艾伦·弗拉尼根;良土芽吾一;阿道夫·米勒·艾伦;克里斯托弗·帕夫洛夫 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L21/203;H01L21/363 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种处理配件，该处理配件包括在衬底处理室中设置于衬底支架周围的环组件，其用于减少沉积在室组件和衬底的悬伸边上的工艺沉积物。该处理配件包括沉积环、盖环以及防升托架，并且还包括整体护板。同时还对靶材进行了说明。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 处理 配件 | ||
【主权项】：
1.一种在衬底处理室中位于衬底支架周围的沉积环，在该处理室中形成处理气体的等离子体以处理衬底，所述支架包括终止于所述衬底悬伸边前的外壁，并且所述沉积环包括：(a)围绕所述支架外壁的环形带，所述环形带包括：(i)从所述环形带横向延伸处的内唇，其基本上和所述支架的外壁平行，并且在所述衬底悬伸边的下部终止；(ii)凸起的脊；(iii)位于所述内唇和凸起的脊之间的内部开口通道，并至少部分沿所述衬底的悬伸边延伸；以及(iv)所述凸起的脊的径向向外的壁架。
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