[发明专利]用于衬底处理室的处理配件和靶材

权利要求书

1.一种在衬底处理室中位于衬底支架周围的沉积环，在该处理室中形成处 理气体的等离子体以处理衬底，所述支架包括终止于所述衬底的悬伸边前的外 壁，并且所述沉积环包括：

(a)围绕所述支架的所述外壁的环形带，所述环形带包括：

(i)从所述环形带横向延伸的内唇，所述内唇基本上和所述支架的 所述外壁平行，并且在所述衬底悬伸边的下方终止；

(ii)凸起的脊；

(iii)位于所述内唇和所述凸起的脊之间的内部开口通道，并且所述 内部开口通道至少部分在所述衬底的所述悬伸边的下方延伸；以及

(iv)所述凸起的脊的径向向外的壁架。

2.根据权利要求1所述的沉积环，其特征在于，所述凸起的脊沿着所述 环形带的中心部分延伸并具有平坦顶面，在使用时，所述平坦顶面与盖环间隔 一定距离以在二者之间形成弯曲间隙。

3.根据权利要求1所述的沉积环，其特征在于，所述内部通道具有与所 述内唇接合的第一圆角以及与所述凸起的脊接合的倾斜表面。

4.根据权利要求2所述的沉积环，其特征在于，所述沉积环还包括U型 槽，所述U型槽形成在所述环形带的所述凸起的脊和所述壁架与所述盖环之 间。

5.根据权利要求1所述的沉积环，其特征在于，所述环形带包括不锈钢。

6.一种至少部分覆盖具有凸起的脊的径向向外的壁架和内部开口通道的 沉积环的盖环，在衬底处理室中所述盖环和所述沉积环位于衬底支架的周围， 在所述衬底处理室中形成处理气体的等离子体以处理衬底，所述支架包括终止 于所述衬底的悬伸边前的外壁，并且所述盖环包括：

(a)环形楔，所述环形楔包括位于所述沉积环的壁架上的底脚、覆盖所 述沉积环的所述内部开口通道的突出边以及倾斜表面，所述突出边的端部为边 缘，所述倾斜表面从圆柱形外壁延伸到所述突出边的所述边缘，并且所述倾斜 表面相对于和所述衬底支架的平面垂直的轴呈倾斜角度；以及

(b)一个或者多个从所述环形楔向下延伸的圆柱形壁，所述圆柱形壁包 括所述圆柱形外壁。

7.根据权利要求6所述的盖环，其特征在于，所述沉积环的凸起的脊和 所述盖环的突出边限定了弯曲间隙，以阻止等离子体通过所述间隙。

8.根据权利要求6所述的盖环，其特征在于，所述盖环的环形楔的倾斜 表面呈倾斜角度至少为约60°。

9.根据权利要求6所述的盖环，其特征在于，所述圆柱形壁包括一对圆 柱形壁，所述一对圆柱形壁沿所述底脚径向向外设置。

10.根据权利要求6所述的盖环，其特征在于，所述圆柱形壁包括内壁和 外壁，所述内壁高度小于所述外壁高度。

11.根据权利要求6所述的盖环，其特征在于，所述突出边端部为圆形边 缘形状。

12.根据权利要求11所述的盖环，其特征在于，所述突出边包括平坦底 面。

13.根据权利要求11所述的盖环，其特征在于，所述突出边还包括位于 圆形边缘前的凸起的脊。

14.根据权利要求13所述的盖环，其特征在于，所述突出边的所述凸起 的脊具有与下面沉积环的表面形状相匹配且与所述表面形状接合的外部形状。

15.根据权利要求6所述的盖环，其特征在于，所述盖环包括钛。