[发明专利]检测设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610135921.4 | 申请日： | 2002-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1940546A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 畠山雅规;村上武司;佐竹徹;野路伸治;长滨一郎太;山崎裕一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所;株式会社东芝 |
| 主分类号： | G01N23/227 | 分类号： | G01N23/227;G01N23/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种检测设备，用于检测样本表面的缺陷，所述设备包括：电子枪，用于向保持在真空环境中的样本发射辐射波束，以便从所述样本中辐射出二次电子束；传感器，包括EB－CCD传感器或EB－TDI传感器，用于检测从所述样本中辐射出的二次电子束，所述传感器允许所述二次电子束直接进入所述传感器，并且形成二维图像，所述传感器被设置在所述真空环境中；电子光学系统，用于将所述二次电子束引导到所述传感器；以及用于将信号从所述传感器传送到处理设备中的馈通；其中所述处理设备处理所述信号，以便检测所述样本表面上的缺陷，并且所述处理设备设置在所述真空环境的外部。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于检测样本表面的缺陷的检测设备，包括：辐射源，用于向保持在真空环境中的样本发射UV线或者激光束，便从所述样本上辐射出二次电子束；传感器，包括EB-CCD传感器或EB-TDI传感器，用于检测从所述样本中辐射出的二次电子束，所述传感器允许所述二次电子束直接进入所述传感器，并且形成二维图像，所述传感器被设置在所述真空环境中；电子光学系统，用于将所述二次电子束引导到所述传感器；以及用于将信号从所述传感器传送到处理设备中的馈通；其中所述处理设备处理所述信号，以便检测所述样本表面上的缺陷，并且所述处理设备设置在所述真空环境的外部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社荏原制作所;株式会社东芝，未经株式会社荏原制作所;株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610135921.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：压敏胶粘剂用聚丙烯酸酯复合乳液的制备方法
- 下一篇：弹簧锁防撬器
