[发明专利]具有高受激发射截面的掺钕氟化钇纳米晶透明玻璃陶瓷及其制备方法无效
| 申请号： | 200610135390.9 | 申请日： | 2006-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN101209900A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 陈大钦;王元生;马恩;余运龙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | C03C10/00 | 分类号： | C03C10/00;C03C3/112;C03B32/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350002福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 具有高受激发射截面的掺钕氟化钇纳米晶透明玻璃陶瓷及其制备方法，涉及激光材料领域。该玻璃陶瓷组分为(摩尔比)：44SiO2－28Al2O3－xYF3－yLiF－zNdF3(x＝13～18，z＝0.01～2.0，y＝(28－x－z))。采用熔体急冷法制备。该玻璃陶瓷对应于4F3/2→4Ij(J＝9/2，11/2，13/2)跃迁的发射峰出现明显的斯塔克分裂。通过调整组分， 4F3/2→4I11/2跃迁的受激发射截面可高达15.53×10－20cm2，大大高于目前已获应用的掺钕激光玻璃。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 受激发射 截面 氟化 纳米 透明 玻璃 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有高受激发射截面的掺钕氟化钇纳米晶透明玻璃陶瓷，其特征在于：该玻璃陶瓷组分为(摩尔比)：44SiO2-28Al2O3-xYF3-yLiF-zNdF3，其中x＝13～18，z＝0.01～2.0，y＝(28-x-z)。
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