[发明专利]基板载置机构以及基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板载置机构，抑制伴随处理气体的供给而生成的反应生成物堆积在设置于基板载置机构的载置台上的销插通孔和在该销插通孔内升降从而在载置台上进行基板交换的升降销的间隙中。该基板的载置机构包括：在销插通孔的下端的开口部中，呈环状向内侧突出形成的环状突出部；和形成于上述升降销上，当该升降销下降时，支承在环出突出部上并塞住上述开口部的扩径部。进入到载置有基板的载置台下方周围的处理气体难以从销插通孔的下端进入，可以抑制反应生成物堆积在升降销和销插通孔之间的间隙中，因此能够抑制对升降销升降的阻碍。

主权项

1.一种基板载置机构，其特征在于，包括：设置在形成有由处理气体造成的处理气氛的处理容器内，载置被处理基板的载置台；分别插入设置于该载置台上的销插通孔中，通过出没动作相对载置台进行基板交换用的多个升降销；以及支承这些升降销的升降体，该基板载置机构能够利用升降机构并通过升降体使升降销升降，其中，还包括：在所述销插通孔的下端的开口部，呈环状向内侧突出形成的环状突出部；和形成于所述升降销上，当该升降销下降时，支承在环状突出部上并塞住所述开口部的扩径部。