[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 200610127703.6 | 申请日： | 2006-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1925723A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | 朴庸硕 | 申请（专利权）人： | 显示器生产服务株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄威;杨小蓉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于湿法蚀刻及剥离工序的基板处理装置。所述基板处理装置包括：供应基板的箱体；与上述箱体的上部是一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；与上述箱体的下部是一体结构，并储存上述药液处理工序中所需药液的储存部；位于上述储存部的内部，并将药液循环至上述处理部的抽吸装置；以及连接于上述抽吸装置、并将药液喷射至上述处理部中基板的喷射部。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种基板处理装置，包括：供应基板的箱体；与上述箱体的上部是一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；与上述箱体的下部是一体结构，并储存上述药液处理工序中所需药液的储存部；位于上述储存部的内部，并将药液循环至上述处理部的抽吸装置；以及连接于上述抽吸装置，并将药液喷射至上述处理部上基板的喷射部。
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