[发明专利]一种从深紫外至远红外光的探测器及制备方法无效

专利信息
申请号: 200610114105.5 申请日: 2006-10-27
公开(公告)号: CN101170147A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 孙志辉;周岳亮;宁廷银;曹玲柱;张洪艳;陆珩;刘知韵 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 高存秀
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种从深紫外至远红外光的探测器及制备方法,该探测器包括:一基底、第一电极、第二电极和电极引线;其特征在于,所述的基底为n型SiC片,还包括在SiC的基底上生长一层p型的La1-xSrxMnO3光响应材料层,其中光响应材料层厚度为0.8nm-2μm;所述的La1-xSrxMnO3光响应材料层,其中x为0.01-0.5;第一电极设置在La1-xSrxMnO3氧化物薄膜的光响应材料层上,第二电极设置在SiC的基底上,第一电极引线和第二电极引线分别连接在第一电极和第二电极上。该制备方法包括采用常规的制膜设备和工艺,首先制出La1-xSrxMnO3/SiC异质结材料,然后再制作光探测器。当光照射探测器后直接产生电压信号,不需要任何辅助的电源和电子电路。其响应波段从紫外到远红外,光生电压信号可达数百mV。
搜索关键词: 一种 深紫 外至远 红外光 探测器 制备 方法
【主权项】:
1.一种从深紫外至远红外光的探测器,包括:一基底、第一电极、第二电极和电极引线;其特征在于,所述的基底为n型SiC片,还包括再在SiC的基底上生长一层p型的La1-xSrxMnO3氧化物薄膜的光响应材料层,薄膜厚度为0.8nm-2μm;所述的La1-xSrxMnO3光响应材料层,其中x为0.01-0.5;第一电极设置在La1-xSrxMnO3氧化物薄膜的光响应材料层上,第二电极设置在SiC的基底上,第一电极引线和第二电极引线连接在电极上。
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