[发明专利]一种从深紫外至远红外光的探测器及制备方法无效
| 申请号: | 200610114105.5 | 申请日: | 2006-10-27 |
| 公开(公告)号: | CN101170147A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
| 发明(设计)人: | 孙志辉;周岳亮;宁廷银;曹玲柱;张洪艳;陆珩;刘知韵 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
| 地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明提供了一种从深紫外至远红外光的探测器及制备方法,该探测器包括:一基底、第一电极、第二电极和电极引线;其特征在于,所述的基底为n型SiC片,还包括在SiC的基底上生长一层p型的La1-xSrxMnO3光响应材料层,其中光响应材料层厚度为0.8nm-2μm;所述的La1-xSrxMnO3光响应材料层,其中x为0.01-0.5;第一电极设置在La1-xSrxMnO3氧化物薄膜的光响应材料层上,第二电极设置在SiC的基底上,第一电极引线和第二电极引线分别连接在第一电极和第二电极上。该制备方法包括采用常规的制膜设备和工艺,首先制出La1-xSrxMnO3/SiC异质结材料,然后再制作光探测器。当光照射探测器后直接产生电压信号,不需要任何辅助的电源和电子电路。其响应波段从紫外到远红外,光生电压信号可达数百mV。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 深紫 外至远 红外光 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种从深紫外至远红外光的探测器,包括:一基底、第一电极、第二电极和电极引线;其特征在于,所述的基底为n型SiC片,还包括再在SiC的基底上生长一层p型的La1-xSrxMnO3氧化物薄膜的光响应材料层,薄膜厚度为0.8nm-2μm;所述的La1-xSrxMnO3光响应材料层,其中x为0.01-0.5;第一电极设置在La1-xSrxMnO3氧化物薄膜的光响应材料层上,第二电极设置在SiC的基底上,第一电极引线和第二电极引线连接在电极上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





