[发明专利]多重光罩曝光系统及其曝光方法有效
| 申请号： | 200610112280.0 | 申请日： | 2006-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1987656A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种多重光罩曝光系统及其曝光方法。该多重光罩曝光系统包括一光罩载台模块，用以支承一第一光罩及一第二光罩，其中第一光罩经一第一光束照射后形成具有一第一图案的第一转换光束，第二光罩经一第二光束照射后形成一具有一第二图案的第二转换光束。此曝光系统亦包括一光束结合器，用以结合第一转换光束及第二转换光束，以形成一结合图案光束，此结合图案光束被投射于具有一光阻层之基板。本发明多重光罩曝光系统及其曝光方法具有达到降低制造成本、提高生产率及消除对准问题的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 多重 曝光 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种多重光罩曝光系统，其特征在于其包括：一光罩载台模块，用以支承一第一光罩及一第二光罩，其中该第一光罩经一第一光束照射后形成具有一第一图案的一第一转换光束，该第二光罩经一第二光束照射后形成具有一第二图案的一第二转换光束；以及一光束结合器，用以结合该第一转换光束及该第二转换光束，以形成一结合图案光束，其中该结合图案光束被投射于具有一光阻层的一基板。
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