[发明专利]导电抗反射涂层无效
申请号: | 200610112273.0 | 申请日: | 2006-08-31 |
公开(公告)号: | CN1952696A | 公开(公告)日: | 2007-04-25 |
发明(设计)人: | 和晃高野 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种导电抗反射涂层,该涂层带有常规的、夹在两个四分之一波长低折射层中间的半波长高折射层,其中高折射半波长层形成导电层,并且对层材料进行选择以使折射率比值(高折射率/低折射率)在1.45和1.52之间,从而为抗反射涂层提供(较)宽的带宽。优选的,半波长导电高折射层包括氧化铟钛,以提供小于20Ω/sq的薄膜电阻。 | ||
搜索关键词: | 导电 反射 涂层 | ||
【主权项】:
1.一种导电抗反射涂层,其为具有中心波长的光提供抗反射作用,包括:第一四分之一波长叠层,其光学厚度大致为所述中心波长的四分之一,所述第一四分之一波长叠层包含具有折射率的第一低折射层;二分之一波长叠层,其光学厚度大致为所述中心波长的二分之一,所述二分之一波长叠层包含第一高折射层,所述第一高折射层是透明的、导电的和具有折射率;第二四分之一波长叠层,其光学厚度大致为所述中心波长的四分之一,所述第二四分之一波长叠层包含具有折射率折射的第二低折射层;其中,所述第一高折射层的折射率和所述第一低折射层的折射率比值在1.45和1.55之间;并且其中,所述第一高折射层包括折射率在2.0和2.15之间的氧化铟钛ITiO,由此,所述涂层具有小于20Ω/sq的薄膜电阻,并在440-675nm之间提供小于0.55%的反射比。
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