[发明专利]薄膜晶体管阵列有效

专利信息
申请号: 200610103042.3 申请日: 2006-07-06
公开(公告)号: CN101101913A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 黄兆庆;任坚志;游辉钟;洪孟锋;刘文雄;朱弘仁 申请(专利权)人: 中华映管股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/522;G02F1/1362
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈亮
地址: 台湾省台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管阵列,包括基板以及配置于基板上的多个薄膜晶体管、多个像素电极、多条共用配线与多个辅助电极。基板具有多个像素区域,而薄膜晶体管、像素电极与辅助电极则是分别配置于各像素区域内。在各像素区域内,像素电极覆盖于共用配线上,并与薄膜晶体管电性连接。辅助电极则是位于像素电极与共用配线之间,且辅助电极与共用配线间的重叠区域面积为L×H,而重叠区域的边长和大于2L×2H。其中,L、H均为正实数。此薄膜晶体管阵列上各像素区域内的馈通电压彼此相等。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列,包含:一基板,具有多个像素区域;多个薄膜晶体管,分别配置于各该像素区域内;多个像素电极,分别配置于各该像素区域内而与薄膜晶体管电性连接;多条共用配线,配置于该基板上,其中在各该像素区域内,像素电极是覆盖于共用配线上;以及多个辅助电极,分别配置于各该像素区域内,并位于像素电极与共用配线之间,各该辅助电极与对应的该共用配线间具有一重叠区域,其中该重叠区域的面积为L×H,而该重叠区域的边长和大于2L×2H,且L、H均为正实数。
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