[发明专利]可控靶冷却有效
| 申请号： | 200610099294.3 | 申请日： | 2006-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1904131A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 棚濑义昭;稻川真;细川明广 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射靶组件(18，20)，对于较大面板的等离子体溅射反应器特别有用。该反应器具有密封到主处理室(14)和真空泵吸室(32)两者的靶组件，真空泵吸室容纳移动的磁控管(30)。靶瓦接合到其的靶组件包括一体板(62)，其具有平行于主表面钻出的平行冷却孔(64)。孔的端部可以被密封(74)，且竖直延伸的槽(66、68、70、72)在每侧上布置为两个交错的群组，并成对地向下机械加工到在衬背板的相对侧上的各自的冷却孔对。四个歧管(104、106)密封到四个群组的槽，并提供了逆流的冷却剂路径。 | ||
| 搜索关键词： | 可控 冷却 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，包括：衬背板，所述衬背板包括形成在其中的多个横向延伸的、平行的、圆筒形冷却孔；和一个或多个溅射靶瓦，其接合到所述衬背板的两个主表面之一。
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