[发明专利]致动器装置、液体喷射头以及液体喷射装置有效
| 申请号： | 200610098456.1 | 申请日： | 2006-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN1893138A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 高部本规;角浩二;横山直人 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/09 | 分类号： | H01L41/09;B41J2/14;B41J2/045 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有压电体层的致动器装置、液体喷射头以及液体喷射装置，其中该压电体层由抑制了极化方向的变动的、无变形状态的结晶构成。本发明的致动器装置具有：设置在单晶硅基板上的二氧化硅；设置在二氧化硅上的至少一层缓冲层；以及设置在该缓冲层上，由面取向(100)的镍酸镧构成的基底层；并且还具有压电元件，其包括：设置在该基底层上，由面取向(100)的铂构成的下电极；由面取向为(100)取向的铁电体构成的压电体层，其通过外延生长而形成在该下电极上，具有从由正方晶系、单斜晶系、以及菱形晶系构成的组中选出的至少一种晶系相对于其他晶系占主导地位的晶系；以及设置在该压电体层上的上电极。 | ||
| 搜索关键词： | 致动器 装置 液体 喷射 以及 | ||
【主权项】：
1.一种致动器装置，其特征在于，具有：设置在单结晶硅(Si)基板上，由二氧化硅(SiO2)构成的层；设置在由二氧化硅(SiO2)构成的层上的至少一层缓冲层；和设置在该缓冲层上并由面取向(100)的镍酸镧(LNO)构成的基底层；并且还具有压电元件，所述压电元件包括：设置在该基底层上，由面取向(100)的铂(Pt)构成的下电极；由面取向为(100)取向的铁电体层构成的压电体层，所述压电体层通过外延生长而形成在该下电极上，具有选自由正方晶系、单斜晶系、以及菱形晶系构成的组中的至少一种晶系相对于其他晶系占主导地位的晶系；和由设置在该压电体层上的上电极。
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