[发明专利]母模、母模制造方法,以及利用其制造液晶显示装置的方法无效
申请号: | 200610095969.7 | 申请日: | 2006-06-29 |
公开(公告)号: | CN1991576A | 公开(公告)日: | 2007-07-04 |
发明(设计)人: | 曺奎哲;金珍郁;李昌熙 | 申请(专利权)人: | LG.菲利浦LCD株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/14;G02F1/1333;G03F7/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 母模、母模制造方法,以及利用其制造液晶显示装置的方法。公开了一种用于制造液晶显示装置的方法,其中,利用软刻印法代替了光刻技术。该方法包括以下步骤:形成薄膜晶体管阵列基板;形成滤色器基板;接合薄膜晶体管阵列基板和滤色器基板;以及在薄膜晶体管阵列基板与滤色器基板之间施加液晶,其中,形成薄膜晶体管阵列基板的步骤和形成滤色器基板的步骤中的至少一个步骤包括利用软模的图案形成方法。该图案形成方法可以是软刻印法工序,该软刻印法工序包括以下步骤:使具有特定图案的软模与缓冲层的表面接触;和向软模和缓冲层施加恒热,以将所述特定图案转印到缓冲层上。 | ||
搜索关键词: | 母模 制造 方法 以及 利用 液晶 显示装置 | ||
【主权项】:
1、一种母模,包括:主体;形成在主体上的预定图案;以及在主体的表面上的疏水基。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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