[发明专利]曝光机器及曝光系统有效
| 申请号： | 200610094097.2 | 申请日： | 2006-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN1869780A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 林朝成;郑德胜;白家瑄;谢忠憬;丘至和;杉浦规生;廖唯伦;连水池 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括一本体及至少一第一曝光源及一第二曝光源。本体具有至少一第一平台及一第二平台，第二平台位于第一平台之下，第一液晶显示面板及第二液晶显示面板分别置放于第一平台及第二平台上。第一曝光源及第二曝光源分别设置于第一平台及第二平台之上，用以分别曝光第一液晶显示面板及第二液晶显示面板。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机器 系统 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括：本体，具有至少一第一平台及一第二平台，该第二平台位于该第一平台之下，该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板分别置放于该第一平台及该第二平台上；以及至少一第一曝光源及一第二曝光源，分别设置于该第一平台及该第二平台之上，用以分别曝光该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板。
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