[发明专利]用于产生形貌图案化衬底的方法和装置有效
| 申请号： | 200610093759.4 | 申请日： | 2006-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN1881079A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·R·阿尔布雷克特;杨宏渊 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G11B5/74 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明的方法用于表面上特征的深蚀刻。在一个实施例中，该方法包括提供具有选定来经历特征蚀刻工艺的表面的衬底以及用保护层和可压印层涂覆该衬底表面。然后被涂覆的衬底经历特征压印和蚀刻工艺。在特征蚀刻工艺之后，所述保护层的暴露部分被去除，曝露良好定义的、形貌图案化的衬底。另外，本发明公开一种用于经历特征蚀刻工艺的装置。该装置包括衬底、选定来经历压印工艺的可压印层、以及位于所述衬底与所述可压印层之间的保护层。所述保护层可被选定来对所述衬底的选定部分提供额外保护且防止所述特征蚀刻工艺的非平坦副产物转移到所述选定部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 形貌 图案 衬底 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于表面上特征的深蚀刻的装置，该装置包括：衬底，具有选定来经历特征蚀刻工艺的表面；可压印层，被选定来经历压印工艺且在所述特征蚀刻工艺期间保护所述衬底的选定部分；以及保护层，设置在所述衬底和所述可压印层之间，所述保护层被配置来在所述特征蚀刻工艺期间受侵蚀从而所述保护层在所述特征蚀刻工艺之后继续覆盖所述衬底的所述选定部分。
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