[发明专利]涂膜形成方法

摘要

本发明的目的在于提供一种理想的涂膜形成方法，其特征在于：用含有烷氧基硅烷化合物的涂布液在基板上形成SOG膜的时候，正确进行温度控制，从而抑制涂膜急剧收缩，并通过防止涂布液中的玻璃质形成材料的消失，来防止SOG膜产生裂纹，并且不使形成回路的金属材料熔融、发生形变。所述涂膜形成方法设定至少3个阶段的被处理物表面温度范围，从低温开始使温度阶段性上升，干燥涂布有SOG膜形成用涂布液的被处理物，接着使被处理物表面温度升至250～500℃的范围，保持±3℃的范围进行上述被处理物的煅烧处理，使SOG膜形成。

主权项

1、涂膜形成方法，其是在被处理物上涂布SOG膜形成用涂布液，经过加热处理工序在被处理物上形成SOG膜的方法，其特征在于：将该加热处理工序分为干燥工序和后续的煅烧工序，在所述干燥工序中，设定至少3个阶段的被处理物表面温度范围，通过从低温开始使温度阶段性上升的方式加热所述被处理物，在接着的煅烧工序中，使被处理物表面温度进一步上升，在250～500℃的范围、并且保持±3℃的范围进行所述被处理物的加热处理，形成SOG膜。