[发明专利]缺陷模拟系统与方法有效

专利信息
申请号: 200610072079.4 申请日: 2006-04-06
公开(公告)号: CN1845107A 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 颜瑞荣;傅宗民;杨稳儒 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种缺陷模拟系统与方法。该缺陷模拟系统包括缺陷布局数据产生器及处理器。该缺陷布局数据产生器,其提供一组缺陷布局数据,其包含一预定数量的点缺陷,其中该点缺陷的面积为至少一种预定尺寸。该处理器,其比较该缺陷布局数据和一预定的包含多个导线区域的电路布局,并判断该点缺陷是否位于该导线区域上。
搜索关键词: 缺陷 模拟 系统 方法
【主权项】:
1.一种缺陷模拟方法,其包括:提供一缺陷布局数据库,其包含至少一缺陷布局数据,该缺陷布局包含一预定数量的点缺陷,其中该点缺陷的面积为至少一种预定尺寸;从一电路布局数据库撷取一电路布局,其包含多个导线区域,且其中该缺陷布局数据库和该电路布局数据库所存的数据为相同格式;比较该缺陷布局和该电路布局;以及决定是否该点缺陷中至少一个位于该导线区域上。
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