[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 200610064221.0 | 申请日： | 2006-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1996149A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | H·威瑟;D·W·卡兰;R·－H·穆尼格施米特;R·B·韦纳;J·T·G·M·范德文;G·H·罗宾斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;梁永 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于在辐射脉冲期间补偿光刻设备中衬底的运动的设备和方法包括提供被配置来与衬底基本上同步地移动入射到衬底上的构图的辐射束的可在枢轴上转动的反射镜。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影设备，包括：投影系统，用于将构图的辐射束投射到衬底的目标部分上；定位结构，用于在由构图的辐射束曝光期间相对于投影系统移动衬底；可在枢轴上转动的反射镜，用于在构图的辐射束的至少一个脉冲期间相对于投影系统移动构图的辐射束；和致动器，用于根据基本上对应于辐射系统的脉冲频率的振荡定时而振荡地在枢轴上转动反射镜以便在所述至少一个脉冲期间与衬底的运动基本上同步地扫描构图的辐射束。
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