[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 200610064221.0 | 申请日： | 2006-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1996149A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | H·威瑟;D·W·卡兰;R·－H·穆尼格施米特;R·B·韦纳;J·T·G·M·范德文;G·H·罗宾斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;梁永 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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