[发明专利]一种电控调维微透镜阵列制作方法无效

专利信息
申请号: 200610030639.X 申请日: 2006-08-31
公开(公告)号: CN1916668A 公开(公告)日: 2007-02-21
发明(设计)人: 郑继红;庄松林;钟阳万;顾玲娟;郑煜;卢荣文 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02F1/13;G09G3/00;G03H1/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 吴宝根
地址: 200093*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种电控调维微透镜阵列制作方法,特点是,方法步骤为:制备电控聚合物分散液晶材料;制作电控透明ITO导电膜液晶盒玻璃片,加入掩模,将电控系统装置于玻璃片阵列中;在两玻璃片间涂布一层聚合物分散液晶材料;设计全息透镜记录光路,制作全息透镜;利用掩模技术,分别依次曝光,制作透镜阵列;通过电脑计算并控制单个变焦透镜的电场,调控组合和次序实现透镜阵列的光学互连及混洗功能,实现对传输光路的任意调控。本发明采用PDLC电控透镜为单元,结合光学阵列与电控的特性,扩展延伸了透镜阵列的应用范围,实现阵列维数的实时调控和任意的光路传输功能。该电控透镜阵列可在光互连,激光扫描,光束整形,光通信等技术中应用。
搜索关键词: 一种 电控调维微 透镜 阵列 制作方法
【主权项】:
1.一种电控调维微透镜阵列制作方法,其特征在于,具体步骤为:(1)制备由预聚物,液晶,光学性能添加剂物质构成的电控聚合物分散液晶材料,作为电控透镜阵列的记录材料;(2)制作电控透明ITO导电膜液晶盒玻璃片,在制作ITO导电膜过程中加入掩模,使得单个透镜间的导电相对绝缘,并将电控系统装置于玻璃片阵列当中,用于控制阵列单元的电控性质;(3)在两片导电膜片间均匀涂布一层5-10μm的聚合物分散液晶材料;(4)设计全息透镜记录光路,利用球面波和平面波干涉,在记录层上制作全息透镜,单个透镜在20V-50V交流电场作用时透镜效应可擦除;(5)利用掩模技术,分别依次曝光,制作透镜阵列,使阵列内单个透镜的性质相同;(6)电脑程序计算并控制单个变焦透镜的电场,调控组合和次序实现透镜阵列的光学互连及混洗功能,实现对传输光路的任意调控。
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