[发明专利]光学邻近校正法、光学邻近校正光掩模及导线结构

摘要

一种光学邻近校正法，首先提供一光掩模图案，其包括多个以端对端方式配置的线状图案。接着，进行一初步校正，于各线形图案二端各附加一末端图案。然后，进行一微调校正，以修正各线形图案及末端图案。其中，末端图案为一不对称图案，且相邻两线状图案间的相邻二末端图案是以镜像对称或点对称的方式排列。

主权项

1.一种光学邻近校正法，包括：提供一光掩模图案，该光掩模图案包括多个线状图案，是以端对端方式进行配置，各该线状图案延伸于一平面座标的X方向，且于Y方向上的宽度为W；进行一初步校正，于各该线形图案二端各附加一末端图案，各该末端图案包括：一第一图案，紧邻于对应的线状图案的末端，该第一图案在Y方向上的最大宽度为W1，且从该线状图案末端起算，该第一图案在X方向上的最大长度为L1；以及一第二图案，紧邻于该线状图案的末端与该第一图案，该第二图案在Y方向上的最大宽度为W2，且从该线状图案末端起算，该第二图案在X方向上的最大长度为L2，其中，W1+W2＞W，且L1＞L2；以及进行一微调校正，以修正该些线形图案及该些末端图案。