[发明专利]一种用于时分复用（TDM）蚀刻工艺中的过程控制的方法和装置

摘要

本发明提供一种在时分复用工艺期间控制腔室内压力的方法。在所述时分复用蚀刻工艺的至少一个步骤内根据开环压力控制算法定位节流阀。评估该步骤的压力响应并且将其与期望的压力响应相比。然后，根据对期望压力响应的评估通过比例积分微分控制器对时分复用蚀刻工艺的逐一步骤定位节流阀。

主权项

1.一种在蚀刻工艺期间控制腔室内压力的方法，该方法包括：在该腔室内设置衬底；在该腔室内执行时分复用蚀刻工艺；在所述时分复用蚀刻工艺的至少一个步骤内根据开环压力控制算法定位节流阀；从所述时分复用蚀刻工艺的逐一步骤根据闭环压力控制算法定位所述节流阀；以及将所述衬底从该腔室中移出。