[发明专利]衍射光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 200580049686.2 | 申请日： | 2005-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN101171534A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 关川亮;前野仁典 | 申请（专利权）人： | 冲电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可高精度地制造衍射光学元件、可实现衍射效率提高的衍射光学元件的制造方法。使用掩模来反复进行使涂布有抗蚀剂(2)的基板(1)曝光、显影、形成抗蚀剂图形并对该抗蚀剂图形进行蚀刻的一系列的处理，制造具有周期性的阶梯形状的衍射光学元件。在第1处理中，形成与阶梯宽度相同宽度的图形，在以后的处理中，增大图形宽度。在制造7级阶梯形状的衍射光学元件的情况下，当设阶梯的级差为D时，在第1处理中，以深度D对第2、4、6级部分进行蚀刻，在第2处理中，以深度2D对第9级部分进行蚀刻，在第3处理中，以深度2D对第5、6、7级部分进行蚀刻，在第4处理中，以深度2D对第3、4、5、6、7级部分进行蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种衍射光学元件的制造方法，在该制造方法中，通过使用抗蚀剂图形的蚀刻对基板进行表面加工，通过反复进行多次这样的处理，制造具有7级阶梯形状的衍射光学元件，该制造方法的特征在于，该制造方法包含：第1工序，以第1深度对成为第2、4、6级的部分进行蚀刻，其中，上述第1深度是上述阶梯的级差；第2工序，以上述第1深度2倍的深度对成为最下级的部分进行蚀刻；第3工序，以上述第1深度2倍的深度对成为第5、6、7级的部分进行蚀刻；以及第4工序，以上述第1深度2倍的深度对成为第3、4、5、6、7级的部分进行蚀刻。
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