[发明专利]在单基板处理期间从基板中去除微量液体的装置和方法无效

专利信息
申请号: 200580037823.0 申请日: 2005-11-03
公开(公告)号: CN101107490A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: A·沃尔特 申请(专利权)人: 艾奎昂技术股份有限公司
主分类号: F26B5/08 分类号: F26B5/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 马洪
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于在单晶片处理舱中通过在基板接触可旋转支承件的那些区域处提供毛细材料来干燥基板的装置和方法。毛细材料用毛细力吸取留在基板和支承件之间接触区域的任何液体,由此降低基板的边缘排除区并提高成品率。在一个方面,本发明的装置包括:含有夹具的可旋转支承件,用于通过仅接触基板的周边区域来将基板支承为基本水平定向;包含一个或多个接触面的夹具,其中这些接触面包含毛细材料。
搜索关键词: 单基板 处理 期间 基板中 去除 微量 液体 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于干燥至少一张基板的装置,包括:含有夹具的可旋转支承件,用于通过仅接触基板的周边区域来将基板支承为基本水平定向;所述夹具包括接触并支承所述基板的周边区域的一个或多个接触面;并且其中所述一个或多个接触面包含毛细材料。
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