[发明专利]等离子体成膜方法和等离子体成膜装置

摘要

本发明提供一种等离子体成膜方法和等离子体成膜装置，相对于在气密处理容器(1)内被载置的基板(W)，通过在径向线隙缝天线(4)中导入微波而使之发生等离子体。设定条件如下：处理容器内的压力是7.32Pa以上8.65Pa以下，微波电力是2000W以上2300W以下，基板表面与原料气体供给部件(3)的相对面之间的距离(L1)是70mm以上105mm以下，基板表面与放电气体供给部件(2)的相对面之间的距离(L2)是100mm以上140mm以下。在该条件下，基于微波能将由环状C₅F₈气体构成的原料气体活化。由此可以得到含有大量的C₄F₆离子和/或自由基的成膜种。由此，形成漏电特性和热稳定性优异的加氟碳膜。

主权项

1.一种等离子体成膜方法，其特征在于，基于微波的能量，将由碳和氟构成、并具有单独1个三键、1个以上双键、或共轭双键的化合物的原料气体活化，利用由此得到的含有C4F6或C4F5的成膜种，形成加氟碳膜，其中，对该原料气体进行活化，使得活化后的原料气体浓度为活化前的原料气体浓度的0.05倍以上0.5倍以下。