[发明专利]用于测量测量目标的具有镜面装置的干涉仪无效

专利信息
申请号: 200580031863.4 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101023320A 公开(公告)日: 2007-08-22
发明(设计)人: J·施特雷勒 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G01B11/06;G01N21/95
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曹若;胡强
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明提出了一种用于对测量目标(5),特别是测量目标(5)的厚度进行测量的干涉仪式的测量装置(1)。在这种情况中,专用镜头(45)设有镜面装置(40),该镜面装置由至少一个第一偏转镜面(60)和一个第二偏转镜面(65)组成,并且这些偏转镜面是如此设置的,即射到第一偏转镜面(60)或者说第二偏转镜面(65)的目标光线(25)对准彼此反向平行的第一光程(80)或者说第二光程(85)中的待测量的测量目标(5)的第一侧面(70)或者说与它平行的第二侧面(75)。镜面装置(40)附加地具有至少一个用于投影待测量的测量目标(5)相对于第一偏转镜面(60)和/或第二偏转镜面(65)的位置的第一位置镜面(70)。
搜索关键词: 用于 测量 目标 具有 装置 干涉仪
【主权项】:
1.用于对测量目标(5)特别是对测量目标(5)的厚度进行测量的干涉仪式的测量装置(1),其具有光源(10)、用于形成基准光线(20)和目标光线(25)的分光器(15)、在基准光程(35)中的基准镜面(30)、在目标光程(50)中的具有镜面装置(40)的专用镜头(45)和摄像机(55),其中,镜面装置(40)由至少一个第一偏转镜面(60)和一个第二偏转镜面(65)组成,并且这些偏转镜面是如此设置的,即射到第一偏转镜面(60)或者说第二偏转镜面(65)的目标光线(25)对准在彼此反向平行的第一光程(80)或者说第二光程(85)中的待测量的测量目标(5)的第一侧面(70)或者说与它平行的第二侧面(75),其特征在于,所述镜面装置(40)附加地具有至少一个用于投影待测量的测量目标(5)相对于第一偏转镜面(60)和/或第二偏转镜面(65)的位置的第一位置镜面(70)。
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