[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法无效
| 申请号： | 200580029285.0 | 申请日： | 2005-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101010169A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | 町田裕之;会田克昭 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/00;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁盘基底的制造方法，其能够减少在玻璃基底表面上存在的滑痕的数量并增大玻璃基底的合格率。当通过利用每个都具有衬垫的抛光盘对玻璃基底的表面进行抛光时，通过将加工速率设定为0.15μm/分或更低并且将衬垫槽宽设定为2至4mm来对非晶或晶化玻璃基底进行抛光。而且，通过将加工速率设定为0.15μm/分或更低来对化学钢化玻璃基底进行抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 基底 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘基底的制造方法，其利用抛光盘对玻璃基底进行抛光，每个抛光盘都具有衬垫，其特征在于通过将加工速率设定为0.15μm/分或更低并且将衬垫槽宽设定为2至4mm来对非晶或晶化玻璃基底进行抛光。
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