[发明专利]基底上的保护涂层及其制备方法无效
| 申请号： | 200580028765.5 | 申请日： | 2005-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN101076614A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 乔治·T·达拉科斯;江畑俊树;帕特里夏·哈伯德;查尔斯·D·伊科万格洛;杰弗里·伦纳茨;亨利·马雷克;守川友治;刘翔 | 申请（专利权）人： | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/458;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在此公开的为一层无裂纹的保护涂层，其包括氮化铝、氧化铝、氧氮化铝或其组合中的至少一种。在此还公开了一种用于制造制品的方法，所述方法包括在基底上沉积保护涂层，所述涂层包括氮化铝、氧化铝、氧氮化铝或其组合中的至少一种，所述基底包括热解氮化硼、热解石墨和/或掺碳氮化硼。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 保护 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于至少涂覆制品的表面的保护层，所述制品用在含卤素气体和/等离子体环境中，所述涂层含有氮化铝、氧化铝、氧氮化铝或其组合中的至少一种，其中所述保护层基本上没有裂纹。
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