[发明专利]曝光装置以及曝光方法有效
申请号: | 200580028236.5 | 申请日: | 2005-11-07 |
公开(公告)号: | CN101015038A | 公开(公告)日: | 2007-08-08 |
发明(设计)人: | 近藤洋行;宫地敬 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20;G21K5/02;H05H1/24 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 左一平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种曝光装置以及曝光方法,使靶材料等离子化,并产生脉冲光,以脉冲光进行曝光。本发明的特点是包括:发光机构,使间歇性供应的靶材料等离子化而产生脉冲光;标线片载物台,具备照射脉冲光的标线片;感应基板载物台,配置有照射于标线片经过图案化的脉冲光的感应基板;控制机构,在开始对感应基板上进行曝光前,依据感应基板载物台的驱动时序及脉冲光的发光时序,使曝光开始点或者曝光结束点与发光时序一致的方式,控制感应基板载物台。本发明即使在曝光用光源中,使用使靶材料等离子化而产生的脉冲光的情形时,也能获得良好的曝光量均一性。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:一发光机构,其使间歇性供应的一靶材料等离子化而产生一脉冲光;一标线片载物台,其具备照射有所述脉冲光的一标线片;一感应基板载物台,其配置有照射有在所述标线片经过图案化的所述脉冲光的一感应基板;以及一控制机构,其在开始对所述感应基板上进行曝光前,以依据所述感应基板载物台的一驱动时序及所述脉冲光的一发光时序,而使曝光开始点或者曝光结束点与所述发光时序一致的方式,控制所述感应基板载物台。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580028236.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造