[发明专利]封闭回路清洁气体方法和系统

摘要

本发明公开了一种移除在处理室的内表面上形成的沉积物的反馈回路清洁系统，包括：流动控制器，其设定供应到等离子体产生系统的清洁气体混合物的流率，其中等离子体产生系统由清洁气体混合物产生等离子体，所述等离子体包括反应清洁物质；检测器，其产生具有与反应产物的浓度相关的信息的反馈信号，通过反应清洁物质与在处理室的内表面上形成的沉积物的反应形成所述反应产物；和处理器，其将反馈信号转换为控制信号，其中所述控制信号用于在流动控制器处连续地控制所述清洁气体混合物的流率。而且，还公开了一种移除在处理室的内表面上形成的沉积物的方法。

主权项

1.一种移除在处理室的内表面上形成的沉积物的方法，所述方法包括：由清洁气体混合物形成等离子体，其中所述等离子体包括反应清洁物质；使所述反应清洁物质与所述处理室的所述内表面上的所述沉积物的第一部分反应以形成反应产物；产生具有与所述反应产物的浓度有关的信息的反馈信号；和基于所述反馈信号调节所述清洁气体混合物的流率，并使所述反应清洁物质与所述沉积物的第二部分反应。