[发明专利]材料的选择性掺杂有效
| 申请号： | 200580020698.2 | 申请日： | 2005-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1972879A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | M·拉亚拉;M·普特科宁;J·皮缅诺夫;L·尼尼斯特;J·佩伊韦萨里;J·库尔基 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/09 | 分类号： | C03C17/09;C30B25/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及由如下方式选择性掺杂材料的方法：a)辐射预定预处理的图案/区域入材料，b)处理材料用于在预处理的图案/区域中产生反应性基团，和c)由原子层沉积方法掺杂材料用于在材料中产生由掺杂剂掺杂的图案/区域。本发明进一步涉及选择性掺杂的材料，制备选择性掺杂的材料的系统，和该方法的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 选择性 掺杂 | ||
【主权项】：
1.一种材料的选择性掺杂方法，其特征在于，a)对材料辐射预定预处理的图案/区域，b)处理材料用于产生对预处理的图案/区域的反应性基团，和c)由原子层沉积方法掺杂材料用于对材料产生由掺杂剂掺杂的图案/区域。
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