[发明专利]晶粒微细化了的铜基合金铸件有效

专利信息
申请号: 200580019411.4 申请日: 2005-05-02
公开(公告)号: CN1969050A 公开(公告)日: 2007-05-23
发明(设计)人: 大石惠一郎 申请(专利权)人: 三宝伸铜工业株式会社
主分类号: C22C9/00 分类号: C22C9/00;B22D1/00;B22D21/00;B22D27/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈长会
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种晶粒微细化了的铜基合金铸件,其含有Cu:69~88质量%、Si:2~5质量%、Zr:0.0005~0.04质量%、P:0.01~0.25质量%、剩余为Zn及不可避免的杂质,而且满足关系式60≤Cu-3.5×Si-3×P≤71,熔融凝固后的平均晶粒径为100μm或更小,α相、κ相和γ相占相结构的比例大于80%。此外,其还可含有选自Mg:0.001~0.2质量%、B:0.003~0.1质量%、C:0.0002~0.01质量%、Ti:0.001~0.2质量%、和稀土类元素:0.01~0.3质量%中的至少一种元素。
搜索关键词: 晶粒 微细 合金 铸件
【主权项】:
1.一种铜基合金铸件,其含有:Cu:69~88质量%;Si:2~5质量%;Zr:0.0005~0.04质量%;P:0.01~0.25质量%;剩余为Zn及不可避免的杂质,而且满足关系式60≤Cu-3.5×Si-3×P≤71,其中熔融凝固后的平均晶粒径为100μm或更小,α相、κ相和γ相占相结构的比例大于80%。
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