[发明专利]偏振UV曝光系统无效
| 申请号： | 200580018091.0 | 申请日： | 2005-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1973243A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | 杰佛瑞·L·所罗门;迈克尔·C·利;理查德·C·艾伦 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02B27/30;F21V7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾红霞;张天舒 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种曝光系统，其用来使由各向异性吸收分子形成的取向层曝光，以允许对连续施加的液晶聚合物(LCP)分子进行取向。入射在该取向层上的光是偏振光。当使用单个偏振器时，该偏振光在带有取向层的基板的横向上的方位角偏振方向会发生改变。可以采用减少该方位角偏振变化的各种方法，包括引入各种类型的偏振旋转减少元件以及选择合适的光源倾斜角。此外，反射结构还可以插入在所述光源和所述取向层之间。使用插入在光源和偏振器之间的反射结构增加了入射在所述取向层上的总光量，并且还可减少偏振旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 uv 曝光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于曝光目标区域上的光学取向层的光学曝光系统，包括：光源，该光源在与第一轴线平行的方向上是细长的；第一偏振器，该第一偏振器设置用来使从所述光源传送到所述目标区域的光的至少一部分偏振；以及偏振旋转补偿元件，该偏振旋转补偿元件置于所述第一偏振器和所述目标区域之间，以控制从所述第一偏振器导向所述目标区域的光的偏振的方位角旋转。
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