[发明专利]2-氨基嘧啶衍生物无效
申请号: | 200580011243.4 | 申请日: | 2005-04-13 |
公开(公告)号: | CN1942463A | 公开(公告)日: | 2007-04-04 |
发明(设计)人: | 冈本芳典;洼田浩一;佐藤一平;服部和之;金山隆俊;横山和宏;寺井嘉哉;竹内雅博 | 申请(专利权)人: | 安斯泰来制药株式会社 |
主分类号: | C07D401/04 | 分类号: | C07D401/04;A61K31/506;A61K31/55;A61P29/00;A61P35/00;A61P37/06;C07D401/14;C07D403/04;C07D413/14 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种可用作与IKK2相关的炎症性疾病或自身免疫病的治疗剂或预防剂的化合物,即在其6位上具有2-羟基苯基、并且在其4位上具有含一个氮原子的饱和环状基团(如哌啶)的2-氨基嘧啶衍生物。本发明的药物组合物和本发明的化合物由于具有抑制IKK2的作用,所以具有优异的抗炎作用,从而可用于炎症性疾病和自身免疫病的治疗剂和预防剂中,特别是可用于类风湿性关节炎的治疗剂和预防剂中。 | ||
搜索关键词: | 氨基 嘧啶 衍生物 | ||
【主权项】:
1.一种IKK2抑制剂,其含有由下面通式(I)所表示的2-氨基嘧啶衍生物或其盐作为有效成分,所述通式(I)为:
(其中所示符号具有下述含义:R1:彼此相同或不同,各自代表低级烷基、-OH、-O-低级烷基、卤素、卤代低级烷基、-S-R3、-SO-R3、-SO2-R3、-NR4(R5)、-CO2-R3、-CO-NR4(R5)、-NR4-CO-R0、-CN、-NO2、-O-卤代低级烷基或低级亚烯基;在这些取代基中,低级烷基和-O-低级烷基可被一个或两个选自-O-R3、-NR4(R5)、-CN和-CO2-R3中的取代基取代;R0:低级烷基;R00:低级亚烷基;R3、R4和R5:彼此相同或不同,各自代表H或-R0;n:0、1或2;E:H、-E1或-D-E1;E1:被任选取代的环烷基、被任选取代的苯基,或被任选取代的单环杂环基或双环杂环基;D:键合、-O-、-S-、-R00-、-O-R00-、-R00-O-、-NR4-R00-、-R00-NR4-、-NR4-CO-、-CO-NR4-、-O-R00-NR4-R00-、-O-R00-O-、-O-R00-CO-或-O-R00-CH(O-R3)-;R6:H、被-R00-任选取代的苯基,或-R0;m:0、1、2或3;R2:H、-R0或-Z-W;Z:-R00-、-CO-、-CO-R00-或-R00-CO-;W:-O-R3、-NR4(R5)、-CR21R22R23、被任选取代的苯基,或者被任选取代的单环杂环基或双环杂环基;R21:H或-R0;R22:-R0、-O-R3或-NR4(R5);R23:-R0或被任选取代的苯基)。
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