[发明专利]用于检测标线设计数据中的缺陷的计算机实现方法有效
申请号: | 200580003027.5 | 申请日: | 2005-01-31 |
公开(公告)号: | CN1910516A | 公开(公告)日: | 2007-02-07 |
发明(设计)人: | Z·K·塞丁;Y·熊;L·格拉瑟;C·黑斯;M·E·普里尔 | 申请(专利权)人: | 克拉-坦科技术股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 张政权 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了用于检测标线设计数据中的缺陷的计算机实现的方法。一种方法包括生成第一模拟图像,它示出了如何用标线制造过程将标线设计数据印制于标线上。该方法还包括用所述第一模拟图像生成第二模拟图像。该第二模拟图像示出了如何以晶片印制过程的一个或多个参数的不同值将标线印制于晶片上。该方法还包括使用所述第二模拟图像检测所述标线设计数据中的缺陷。另一方法包括上述生成步骤,以及按照不同值确定第二模拟图像的特征的变化率。该方法还包括基于变化率检测标线设计数据中的缺陷。 | ||
搜索关键词: | 用于 检测 标线 设计 数据 中的 缺陷 计算机 实现 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于检测标线设计数据中的缺陷的计算机实现的方法,包括:生成第一模拟图像,它示出了如何用标线制造过程将标线设计数据印制于标线上;用所述第一模拟图像生成第二模拟图像,其中所述第二模拟图像示出了如何以晶片印制过程的一个或多个参数的不同值将标线印制于晶片上;以及使用所述第二模拟图像检测所述标线设计数据中的缺陷。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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