[发明专利]相配玻璃版及其制造和应用方法无效
申请号: | 200510126560.2 | 申请日: | 2005-11-28 |
公开(公告)号: | CN1782870A | 公开(公告)日: | 2006-06-07 |
发明(设计)人: | 吴剑秋 | 申请(专利权)人: | 吴剑秋 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;B41N1/00 |
代理公司: | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人: | 彭家恩 |
地址: | 马来西*** | 国省代码: | 马来西亚;MY |
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摘要: | 本发明公开了一种相配玻璃版及其制造和应用方法。当两片玻璃板被置于预定的距离时,一对接近并行的相配玻璃版被制作成,有着位于特定的容许范围内的豁口。该相配玻璃版的制作法也被提出。这类玻璃板可以用来当作液体光致聚合物印刷版机械上的一个组件。同时一个使用更改压缩夹层法和该玻璃板的光致聚合物曝光就也被提出。这方法也可利用传统的磨光玻璃。 | ||
搜索关键词: | 相配 玻璃 及其 制造 应用 方法 | ||
【主权项】:
1、一对相配玻璃板,应用于液体光致聚合物曝光机,包括:一对第一和第二片玻璃板,两片都可被分开或接近,当该两片玻璃被接近时,其中任何一片该玻璃板是平行并位于另一片玻璃相互的预定位置,而两片玻璃在近接触时所产生的距离是位于先决定的整个表面距离所容许范围内;至少一个该近距离接触玻璃表面是涂上一层黏附玻璃的漆层;而另一片反面玻璃板被涂上一层黏附玻璃的漆层的表面是涂了第二层漆层以遮挡部分的光化射线。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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